삼성전자, ‘국제 오디오 공학회 2019’서 기술력 입증
삼성전자, ‘국제 오디오 공학회 2019’서 기술력 입증
  • 김창한 기자
  • 승인 2019.11.06 10:15
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삼성전자 출품 논문 3개, ‘국제 오디오 공학회’ Top 10 논문에 선정
음향 성능 최적화를 위한 스피커 포트 디자인
소리 왜곡을 보정하는 비선형 제어 알고리즘
헤드폰 음향 개인 최적화 알고리즘
▲미국 새너제이(San Jose)에 위치한 삼성 리서치 아메리카 오디오랩‘무향실’에서 논문 저자들이 음질 테스트 장비를 소개하고 있다.

【월드경제신문 김창한 기자】삼성전자가 최근 ‘국제 오디오 공학회(AES, Audio Engineering Society) 2019’에서 선정한 논문 상위 10개 목록에 3개를 올리며 오디오 기술력을 입증했다고 6일 밝혔다.

미국 뉴욕에 본부를 두고 있는 국제 오디오 공학회는 70여 년의 역사를 가진 업계에서 가장 공신력 있는 학회이다.

이번에 TOP10에 선정된 논문은 삼성 리서치 아메리카(SRA) 소속 오디오랩에서 제출한 것으로, △음향 성능 최적화를 위한 스피커 포트 디자인  △소리 왜곡을 보정하는 비선형 제어 기술 △근거리 반응 기술을 이용한 헤드폰 음향 개인 최적화 기술 등 총 3개이다.

일반적으로 스피커는 밀폐형(Sealed)과 구멍이 나있는 포트형(Ported)으로 분류된다. 포트형 스피커는 밀폐형 대비 깊은 저음을 내는데 용이하지만 공기가 통하는 구조라 잡음이 생기기 쉬운데, 이같은 노이즈를 최소화해 스피커 성능을 최적화하는 기술이 선정됐다.

두 번째는 소리의 왜곡을 제어해 원하는 소리를 정확하게 내주는 알고리즘 기술이다. 소리는 스피커에 들어오는 전극의 힘에 따라 불규칙한 왜곡이 발생하기 마련인데, 소리가 스피커에 도달하기 전에 전극을 보정해 의도한 소리를 정확하게 내준다.

마지막으로 사람마다 소리가 전달되는 귀의 구조, 고막 모양, 반사 정도가 다르기 때문에 이를 미리 측정해 소리를 일정하게 최적화시켜주는 헤드폰 관련 기술이 선정됐다.

삼성 리서치 아메리카에서 오디오랩을 맡고 있는 앨런 드밴티어(Allan Devantier) 상무는 “국제 오디오 공학회를 통해 삼성전자의 오디오 기술력을 인정받아 기쁘다”며 “지속적인 혁신 기술 개발과 사업부와의 협력을 통해 사용자들의 오디오 경험을 풍부하게 만드는 데 기여할 것”이라고 말했다.


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